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目前，很多人一聽說華為招光刻機工程師就以為華為立刻能研發(fā)出光刻機。但實際上，華為5年內估計也難研發(fā)出光刻機。這是因為光刻機技術難度太大了。

高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數幾家公司能夠制造。

而中國科學院半導體所開始研制JK-1型半自動接近式光刻機并在1981年研制成功兩臺樣機。當時中國已經知道分步投影光刻技術的顯著優(yōu)點，但是苦于國內生產工藝尚不成熟，所以很難實現(xiàn)。

為何呢？因為能研發(fā)出光刻機，沒有產業(yè)化也沒用。據了解，我們國家的光刻機研發(fā)一直是國有科研單位下面的上海微電子在研發(fā)，但與市場脫節(jié)。

那時流行的是自己做不如買，自己研發(fā)不如進口。所以，有人總結說，中國的光刻機研發(fā)一直有亮點，但始終被甩在后面。

而且，中國對自己研發(fā)的光刻機的自我評價還一直比較高。1985年，電子45所研制出了分步光刻機樣機，通過技術鑒定時，還認為達到美國4800DSW的水平。當時認為，按照這個時間節(jié)點算，中國在分步光刻機上與國外的差距不超過7年(美國是1978年)。

可實際呢？比美國相比落后7年并不是指落后于全球7年。因為美國的光刻機技術當時并不是全球最先進的，全球最好的光刻機當時是日本的尼康、佳能等。

所以，即便華為來研發(fā)光刻機也需要有清醒的認識，荷蘭ASML公司花了吃奶的力氣才研發(fā)出EUV光刻機，單臺EUIV設備里超過十萬個零件，4萬個螺栓以及3000多條線路。僅僅軟管加起來，就有兩公里長。這么一臺龐大的設備，重量足足有180噸。而且，里面還要大量的高端化學材料。這些高端化學材料又掌握在日本企業(yè)手里，如果日本企業(yè)不肯賣，那就糟了，相當于線索中斷了。

所以，對華為研發(fā)光刻機也不可盲目樂觀，只能說華為有決心，是好事。

（責任編輯：楊丹丹）

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