?運(yùn)營(yíng)商財(cái)經(jīng) 康釗/文

近日，工信部發(fā)布了《首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備推廣應(yīng)用指導(dǎo)目錄（2024年版）》，其中顯示，集成電路設(shè)備方面，中國(guó)已研發(fā)成功氟化氬光刻機(jī)，光源193納米，分辨率≤65nm，套刻≤8nm。那么，這是什么含義呢？其實(shí)還有喜有憂。

工信部其實(shí)是告知一個(gè)重要信息，即國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)技術(shù)取得了實(shí)質(zhì)性進(jìn)步。光刻精度主要看的是光刻機(jī)的分辨率，65nm的分辨率，那么單次曝光能夠達(dá)到的工藝制程節(jié)點(diǎn)大概就在65nm左右，所以，工信部的消息其實(shí)意味著國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了65納米工藝的重大突破。可千萬(wàn)別小瞧這個(gè)進(jìn)步，最近，荷蘭遵照美國(guó)的意圖，限制光科技巨頭阿斯麥公司向中國(guó)出售NXT：1970 和 NXT：1980這兩款光刻機(jī)，就是故意卡在65納米工藝上了，中國(guó)宣告光刻機(jī)突破65納米，美國(guó)的這個(gè)卡脖子政策也就沒(méi)意義了，這就是喜的地方。

憂的地方是，還沒(méi)有業(yè)內(nèi)企業(yè)說(shuō)見(jiàn)到了這個(gè)光刻機(jī)。中國(guó)首臺(tái)（套）重大技術(shù)裝備是指國(guó)內(nèi)實(shí)現(xiàn)重大技術(shù)突破、擁有知識(shí)產(chǎn)權(quán)、尚未取得明顯市場(chǎng)業(yè)績(jī)的裝備產(chǎn)品，包括整機(jī)設(shè)備、核心系統(tǒng)和關(guān)鍵零部件等。也就是說(shuō)，這個(gè)65納米工藝的國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)還沒(méi)到“取得明顯市場(chǎng)業(yè)績(jī)”的階段，不知中芯國(guó)際之后是否會(huì)購(gòu)買(mǎi)并大規(guī)模使用。

中國(guó)雖然攻克了65納米工藝的光刻機(jī)，但距離國(guó)際先進(jìn)水平還相差多遠(yuǎn)呢？實(shí)際上，荷蘭阿斯麥公司2006年推出的干式DUV光刻機(jī)XT：1450的分辨率就已經(jīng)達(dá)到了57nm，套刻精度為7nm。所以，65納米的國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)性能與阿斯麥公司的技術(shù)實(shí)際差距超過(guò)18年，美國(guó)限制向中國(guó)出售的NXT：1970光刻機(jī)也是2007年就已推出的，17年前的老款光刻機(jī)都對(duì)中國(guó)不開(kāi)放，可見(jiàn)美國(guó)對(duì)中國(guó)真是欺負(fù)到家了，但這回泡湯了。

（責(zé)任編輯：韓麗）

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